德國SciDre公司推出的高溫高壓光學(xué)浮區(qū)爐能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度，晶體生長腔可最大壓力可達(dá)300Bar，甚以及10 ^-5 mBar的高真空。適用于生長各種超導(dǎo)材料單晶，介電和磁性材料單晶，氧化物及金屬間化合物單晶等。

耐高溫、耐高壓、高真空、高透光率、拆裝簡便、帶樣品污染保護(hù)的石英樣品腔

由德國弗勞恩霍夫應(yīng)用光學(xué)和精密工程研究所優(yōu)化設(shè)計(jì)的高反射率鏡面，鏡體位置和角度可由高精度步進(jìn)馬達(dá)控制調(diào)節(jié)

光闌式光強(qiáng)控制器

   更方便地調(diào)節(jié)熔區(qū)溫度，延長燈泡壽命

仿真化觸屏控制軟件，界面友好，操作簡單

  熔區(qū)測溫選件專利測溫技術(shù)

可探測熔區(qū)和料棒的溫度梯度

多路獨(dú)立氣路控制選件   可控制N ₂ 、O ₂ 、Ar、空氣等其他的流量和壓力， 并可對氣體進(jìn)行比例混合與熔區(qū)進(jìn)行反應(yīng)

氣體除雜選件

可使高壓氬氣中的氧含量達(dá)到10 ^-12ppm

退火選件

可對離開熔區(qū)的單晶棒提供最高1100℃退火溫度和高壓氧環(huán)境并可定制退火溫度梯度

熔區(qū)溫度

最高 2000 - 3000 ℃以上

熔區(qū)壓力

最大 10 、 50 、 100 、 150 、 300 bar 可選

熔區(qū)真空

1*10 -2 mbar 或 1*10 -5 mbar 可選

熔區(qū)氣氛

Ar 、 O ₂ 、 N ₂ 等可選

氣體流量

0.25 – 1 L/min 流量可控

氙燈功率

3kW 至 15kW 可選

料棒臺尺寸

6.8mm 或 9.8mm 可選

拉伸速率

0.1-200 mm/h

調(diào)節(jié)速率

0.6 mm/s

拉伸尺寸

最大 195mm

旋轉(zhuǎn)速率

0-150 rpm

用電功率

400V 三相 63A 50Hz

水冷功率

大于 8kW

主機(jī)尺寸

302cm*163cm*92cm