網(wǎng)站首頁 - 產(chǎn)品中心 - 顯微成像 > 荷蘭Phenom臺(tái)式掃描電鏡 > 場發(fā)射掃描電鏡 LE(Phenom Pharos)
和茂儀器
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Phenom LE 飛納臺(tái)式場發(fā)射電鏡采用熱場發(fā)射電子源,信噪比高,使用壽命長,保證長期穩(wěn)定的性能。飛納臺(tái)式場發(fā)射掃描電鏡能譜一體機(jī)標(biāo)配背散射電子成像、二次電子電子成像和能譜分析功能,可對各種樣品進(jìn)行高分辨成像及元素分析。
組成: |
安裝環(huán)境要求: |
· 真空系統(tǒng):高流速分子泵 |
· 濕度要求:20%-80% |
· 電子槍:肖特基場發(fā)射電子槍 |
· 溫度要求:15-30 ℃ |
· 電磁透鏡 |
· 場地要求:對震動(dòng)和磁場無特殊要求 |
![]() Phenom Pro |
![]() Phenom ProX |
![]() Phenom LE |
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光學(xué)放大 | 20 - 135 X | 20 - 135 X | 20 - 135 X |
電子光學(xué)放大 | 80 - 150,000 X | 80 - 150,000 X | 200 - 500,000 X |
分辨率 | 優(yōu)于 8 nm | 優(yōu)于 8 nm | 優(yōu)于 2.5 nm |
數(shù)字放大 | Max. 12 X | Max. 12 X | Max. 12 X |
光學(xué)導(dǎo)航相機(jī) | 彩色 | 彩色 | 彩色 |
加速電壓 | 5 kV - 15 kV 連續(xù)可調(diào) | 5 kV - 15 kV 連續(xù)可調(diào) | 5 kV - 15 kV 連續(xù)可調(diào) |
真空模式 |
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探測器 |
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能譜探測器 |
公司名稱:長沙和茂儀器設(shè)備有限公司
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